Ανάπτυξη και χαρακτηρισμός οξειδίων υψηλής διηλεκτρικής σταθεράς σε διατάξεις MOS p-Ge /
Main Author: | |
---|---|
Corporate Author: | |
Other Authors: | |
Format: | Thesis Book |
Language: | Greek |
Subjects: | |
Online Access: | http://hdl.handle.net/10889/9195 |
Physical Description: | vi, 180 σ. : έγχ. εικ. ; 30 εκ. |
---|