High Dielectric Constant Materials VLSI MOSFET Applications

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριος συγγραφέας: Huff, H.R
Άλλοι συγγραφείς: Gilmer, D.C
Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Εργαλειοθήκη Βιβλίο
Γλώσσα:English
Έκδοση: Berlin, Heidelberg Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2005
Σειρά:Springer Series in Advanced Microelectronics 16
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:http://dx.doi.org/10.1007/b137574
LEADER 01348nom a2200361 u 4500
001 10070519
003 upatras
005 20210117201617.0
008 090513s2005 eng
020 |a 9783540264620 
040 |a GR-PaULI  |c GR-PaULI 
041 0 |a eng 
100 1 |a Huff, H.R.  |9 66837 
245 1 0 |a High Dielectric Constant Materials  |h [electronic resource]  |b VLSI MOSFET Applications  |c edited by H.R. Huff, D.C. Gilmer 
260 |a Berlin, Heidelberg  |b Springer-Verlag Berlin Heidelberg  |c 2005 
300 |b v.: digital 
490 0 |a Springer Series in Advanced Microelectronics  |v 16  |x 1437-0387 
650 4 |a Optical materials  |9 64444 
650 4 |a Surfaces (Physics)  |9 64420 
650 4 |a Engineering  |9 17712 
650 4 |a Condensed matter  |9 64428 
650 4 |a Chemistry  |9 11013 
650 4 |a Optical and Electronic Materials  |9 64446 
650 4 |a Surfaces and Interfaces, Thin Films  |9 64422 
650 4 |a Physics and Applied Physics in Engineering  |9 64483 
650 4 |a Condensed Matter  |9 64429 
700 1 |a Gilmer, D.C.  |9 66838 
760 1 |a Springer Series in Advanced Microelectronics  |g 16  |x 1437-0387 
852 |a GR-PaULI  |b ΠΑΤΡΑ  |b ΒΚΠ 
856 4 0 |u http://dx.doi.org/10.1007/b137574 
942 |2 ddc 
952 |0 0  |1 0  |4 0  |7 0  |9 71974  |a LISP  |b LISP  |d 2016-04-24  |l 0  |r 2016-04-24 00:00:00  |w 2016-04-24  |y ERS 
999 |c 46764  |d 46764