Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications

• Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: SpringerLink (Online service)
• Άλλοι συγγραφείς: Shacham-Diamand, Yosi (Επιμελητής έκδοσης), Osaka, Tetsuya (Επιμελητής έκδοσης), Datta, Madhav (Επιμελητής έκδοσης), Ohba, Takayuki (Επιμελητής έκδοσης)
• Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Ηλ. βιβλίο
• Γλώσσα: English
• Έκδοση: New York, NY : Springer New York, 2009.
• Θέματα: Chemistry.; Electrochemistry.; Chemical engineering.; Electrical engineering.; Materials science.; Nanotechnology.; Materials Science, general.; Industrial Chemistry/Chemical Engineering.; Electrical Engineering.

Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamental and Applications brings a comprehensive description of copper based interconnect technology for Ultra Large Scale Integration (ULSI) technology to Integrated Circuit (ICs) application. This book reviews the basic technologies used today for the copp...