Design for Manufacturability with Advanced Lithography

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL).  The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufactur...

Πλήρης περιγραφή

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριοι συγγραφείς: Yu, Bei (Συγγραφέας), Pan, David Z. (Συγγραφέας)
Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: SpringerLink (Online service)
Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Ηλ. βιβλίο
Γλώσσα:English
Έκδοση: Cham : Springer International Publishing : Imprint: Springer, 2016.
Έκδοση:1st ed. 2016.
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Full Text via HEAL-Link

Παρόμοια τεκμήρια