High Dielectric Constant Materials VLSI MOSFET Applications /

Issues relating to the high-K gate dielectric are among the greatest challenges for the evolving International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). More than just an historical overview, this book will assess previous and present approaches related to scaling the gate dielectric and their i...

Πλήρης περιγραφή

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: SpringerLink (Online service)
Άλλοι συγγραφείς: Huff, H.R (Επιμελητής έκδοσης), Gilmer, D.C (Επιμελητής έκδοσης)
Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Ηλ. βιβλίο
Γλώσσα:English
Έκδοση: Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 2005.
Σειρά:Springer Series in Advanced Microelectronics, 16
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Full Text via HEAL-Link
Search Result 1
ανά Huff, H.R
Έκδοση 2005
Λήψη πλήρους κειμένου
Ηλεκτρονική πηγή Εργαλειοθήκη Βιβλίο