Samukawa, S. (2014). Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System. Springer Japan : Imprint: Springer.
Παραπομπή σε μορφή Chicago (17η εκδ.)Samukawa, Seiji. Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System. Tokyo: Springer Japan : Imprint: Springer, 2014.
Παραπομπή σε μορφή MLA (8th εκδ.)Samukawa, Seiji. Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System. Springer Japan : Imprint: Springer, 2014.
Πρόσοχή: Οι παραπομπές μπορεί να μην είναι 100% ακριβείς.