Ανάπτυξη και μελέτη δομών Αl / HfO2 / p-Si
Η παρούσα μεταπτυχιακή διπλωματική εργασία πραγματεύεται την ανάπτυξη και μελέτη διατάξεων ΜOS σε υποστρώματα πυριτίου (Si) τύπου –p. Ως διηλεκτρικό υλικό αναπτύχθηκαν λεπτά υμένια ΗfO2. Ως μέταλλο πύλης χρησιμοποιήθηκε αλουμίνιο (Αl). Οι πιο γνωστές τεχνικές εναπόθεσης διηλεκτρικών υμενίων είναι η...
Κύριος συγγραφέας: | Χατζηπαπάς, Ιωάννης |
---|---|
Άλλοι συγγραφείς: | Γεωργά, Σταυρούλα |
Μορφή: | Thesis |
Γλώσσα: | Greek |
Έκδοση: |
2020
|
Θέματα: | |
Διαθέσιμο Online: | http://hdl.handle.net/10889/13963 |
Παρόμοια τεκμήρια
-
Ανάπτυξη και χαρακτηρισμός δομών p-Si / Ta2O5 / Al
ανά: Κόρκος, Σπυρίδων
Έκδοση: (2018) -
Αλληλεπίδραση ηλεκτροδίων - διηλεκτρικών υψηλής διηλεκτρικής σταθεράς σε δομές MIS ημιαγωγών της ομάδας IV
ανά: Ρελλιάς, Γιώργος
Έκδοση: (2022) -
Διηλεκτρική απόκριση σύνθετων συστημάτων ελαστομερικής μήτρας - ανόργανων νανο-σωματιδίων
ανά: Καλίνη, Αναστασία
Έκδοση: (2008) -
Διεύρυνση της αντίδρασης Heck και εφαρμογή της στη σύνθεση φαρμάκων και υποστρωμάτων για την καταλυτική ασύμμετρη αλογονοκυκλοποίηση
ανά: Μοσχονά, Φωτεινή
Έκδοση: (2022) -
Δομή φωτοβολταϊκού a-Si/μc-Si και πειραματική σύγκριση με φωτοβολταϊκά άλλων τεχνολογιών πυριτίου
ανά: Κουτσουράκης, Γεώργιος
Έκδοση: (2013)