Ανάπτυξη και μελέτη δομών Αl / HfO2 / p-Si
Η παρούσα μεταπτυχιακή διπλωματική εργασία πραγματεύεται την ανάπτυξη και μελέτη διατάξεων ΜOS σε υποστρώματα πυριτίου (Si) τύπου –p. Ως διηλεκτρικό υλικό αναπτύχθηκαν λεπτά υμένια ΗfO2. Ως μέταλλο πύλης χρησιμοποιήθηκε αλουμίνιο (Αl). Οι πιο γνωστές τεχνικές εναπόθεσης διηλεκτρικών υμενίων είναι η...
| Main Author: | Χατζηπαπάς, Ιωάννης |
|---|---|
| Other Authors: | Γεωργά, Σταυρούλα |
| Format: | Thesis |
| Language: | Greek |
| Published: |
2020
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://hdl.handle.net/10889/13963 |
Similar Items
-
Ανάπτυξη και χαρακτηρισμός δομών p-Si / Ta2O5 / Al
by: Κόρκος, Σπυρίδων
Published: (2018) -
Διηλεκτρική απόκριση σύνθετων συστημάτων ελαστομερικής μήτρας - ανόργανων νανο-σωματιδίων
by: Καλίνη, Αναστασία
Published: (2008) -
Αλληλεπίδραση ηλεκτροδίων - διηλεκτρικών υψηλής διηλεκτρικής σταθεράς σε δομές MIS ημιαγωγών της ομάδας IV
by: Ρελλιάς, Γιώργος
Published: (2022) -
Διεύρυνση της αντίδρασης Heck και εφαρμογή της στη σύνθεση φαρμάκων και υποστρωμάτων για την καταλυτική ασύμμετρη αλογονοκυκλοποίηση
by: Μοσχονά, Φωτεινή
Published: (2022) -
Δομή φωτοβολταϊκού a-Si/μc-Si και πειραματική σύγκριση με φωτοβολταϊκά άλλων τεχνολογιών πυριτίου
by: Κουτσουράκης, Γεώργιος
Published: (2013)