Ανάπτυξη και μελέτη δομών Αl / HfO2 / p-Si

Η παρούσα μεταπτυχιακή διπλωματική εργασία πραγματεύεται την ανάπτυξη και μελέτη διατάξεων ΜOS σε υποστρώματα πυριτίου (Si) τύπου –p. Ως διηλεκτρικό υλικό αναπτύχθηκαν λεπτά υμένια ΗfO2. Ως μέταλλο πύλης χρησιμοποιήθηκε αλουμίνιο (Αl). Οι πιο γνωστές τεχνικές εναπόθεσης διηλεκτρικών υμενίων είναι η...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Χατζηπαπάς, Ιωάννης
Other Authors: Γεωργά, Σταυρούλα
Format: Thesis
Language:Greek
Published: 2020
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/10889/13963