Επιφανιακές κατεργασίες μετάλλων με χρήση στερεάς και ρευστοστερεάς κλίνης
Στην παρούσα διατριβή πραγµ ατοποιήθηκε η θεωρητική και πειραµ ατική διερεύνηση της τεχνολογίας επιφανειακής κατεργασίας µ εταλλικών υλικών, που βασίζεται στη διεργασία Χηµ ικής Εναπόθεσης Ατµ ών (CVD – Chem ical Vapour Deposition) µ ε χρήση Στερεάς Κλίνης (PBCVD) και Ρευστοστερεάς Κλίνης (FBCVD). Η...
Κύριος συγγραφέας: | Χριστόγλου, Χρήστος |
---|---|
Άλλοι συγγραφείς: | Αγγελόπουλος, Γεώργιος |
Γλώσσα: | Greek |
Έκδοση: |
2007
|
Θέματα: | |
Διαθέσιμο Online: | http://nemertes.lis.upatras.gr/jspui/handle/10889/221 |
Παρόμοια τεκμήρια
-
Επιφανιακές κατεργασίες μετάλλων με χρήση στερεάς και ρευστοστερεάς κλίνης
ανά: Χριστόγλου, Χρήστος
Έκδοση: (2004) -
Χημική εναπόθεση μικροκρυσταλλικού υδρογονωμένου πυριτίου με πλάσμα υψηλής πυκνότητας ηλεκτρονίων
ανά: Δημητρακέλλης, Παναγιώτης Δ. -
In-situ study of CVD graphene growth on liquid metal catalysts by radiation-mode optical microscopy
ανά: Σφουγκάρης, Ηλίας
Έκδοση: (2021) -
Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon thin films and materials' characterization
ανά: Αλεξίου, Ιωάννης
Έκδοση: (2018) -
Εναπόθεση και χαρακτηρισμός νανοδομημένου πυριτίου για οπτοηλεκτρονικές εφαρμογές
ανά: Φαρσάρη, Εργίνα
Έκδοση: (2016)