Επιφανιακές κατεργασίες μετάλλων με χρήση στερεάς και ρευστοστερεάς κλίνης
Στην παρούσα διατριβή πραγµ ατοποιήθηκε η θεωρητική και πειραµ ατική διερεύνηση της τεχνολογίας επιφανειακής κατεργασίας µ εταλλικών υλικών, που βασίζεται στη διεργασία Χηµ ικής Εναπόθεσης Ατµ ών (CVD – Chem ical Vapour Deposition) µ ε χρήση Στερεάς Κλίνης (PBCVD) και Ρευστοστερεάς Κλίνης (FBCVD). Η...
Main Author: | Χριστόγλου, Χρήστος |
---|---|
Other Authors: | Αγγελόπουλος, Γεώργιος |
Language: | Greek |
Published: |
2007
|
Subjects: | |
Online Access: | http://nemertes.lis.upatras.gr/jspui/handle/10889/221 |
Similar Items
-
Επιφανιακές κατεργασίες μετάλλων με χρήση στερεάς και ρευστοστερεάς κλίνης
by: Χριστόγλου, Χρήστος
Published: (2004) -
Χημική εναπόθεση μικροκρυσταλλικού υδρογονωμένου πυριτίου με πλάσμα υψηλής πυκνότητας ηλεκτρονίων
by: Δημητρακέλλης, Παναγιώτης Δ. -
In-situ study of CVD graphene growth on liquid metal catalysts by radiation-mode optical microscopy
by: Σφουγκάρης, Ηλίας
Published: (2021) -
Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon thin films and materials' characterization
by: Αλεξίου, Ιωάννης
Published: (2018) -
Εναπόθεση και χαρακτηρισμός νανοδομημένου πυριτίου για οπτοηλεκτρονικές εφαρμογές
by: Φαρσάρη, Εργίνα
Published: (2016)