Long-Term Reliability of Nanometer VLSI Systems Modeling, Analysis and Optimization /

This book provides readers with a detailed reference regarding two of the most important long-term reliability and aging effects on nanometer integrated systems, electromigrations (EM) for interconnect and biased temperature instability (BTI) for CMOS devices. The authors discuss in detail recent de...

Πλήρης περιγραφή

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριοι συγγραφείς: Tan, Sheldon (Συγγραφέας, http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut), Tahoori, Mehdi (http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut), Kim, Taeyoung (http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut), Wang, Shengcheng (http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut), Sun, Zeyu (http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut), Kiamehr, Saman (http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut)
Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: SpringerLink (Online service)
Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Ηλ. βιβλίο
Γλώσσα:English
Έκδοση: Cham : Springer International Publishing : Imprint: Springer, 2019.
Έκδοση:1st ed. 2019.
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Full Text via HEAL-Link

Παρόμοια τεκμήρια