Silicon technologies : ion implantation and thermal treatment /

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Άλλοι συγγραφείς: Baudrant, Annie
Μορφή: Ηλ. βιβλίο
Γλώσσα:English
Έκδοση: London : ISTE ; 2011.
Hoboken, NJ : Wiley, 2011.
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Full Text via HEAL-Link
LEADER 03035nam a2200733 4500
001 ocn828672185
003 OCoLC
005 20170124070621.5
006 m o d
007 cr cnu---unuuu
008 130228s2011 enka ob 001 0 eng d
040 |a N$T  |b eng  |e pn  |c N$T  |d E7B  |d DG1  |d IDEBK  |d UMI  |d COO  |d DEBBG  |d YDXCP  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d DEBSZ  |d OCLCQ  |d LOA  |d OCLCQ  |d GrThAP 
019 |a 858949398  |a 960200541  |a 961601119  |a 962586146 
020 |a 9781118601044  |q (electronic bk.) 
020 |a 1118601041  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781118601112  |q (electronic bk.) 
020 |a 1118601114  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781118601143 
020 |a 1118601149 
020 |z 9781848212312 
020 |z 1848212313 
029 1 |a AU@  |b 000052007527 
029 1 |a DEBBG  |b BV041432444 
029 1 |a DEBBG  |b BV041906305 
029 1 |a DEBBG  |b BV043395514 
029 1 |a DEBSZ  |b 398283605 
029 1 |a DKDLA  |b 820120-katalog:000696495 
029 1 |a NZ1  |b 15916398 
035 |a (OCoLC)828672185  |z (OCoLC)858949398  |z (OCoLC)960200541  |z (OCoLC)961601119  |z (OCoLC)962586146 
037 |a CL0500000292  |b Safari Books Online 
050 4 |a TK7871.85 
072 7 |a TEC  |x 008090  |2 bisacsh 
072 7 |a TEC  |x 008100  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 621.3815/2  |2 23 
049 |a MAIN 
245 0 0 |a Silicon technologies :  |b ion implantation and thermal treatment /  |c edited by Annie Baudrant. 
264 1 |a London :  |b ISTE ;  |c 2011. 
264 1 |a Hoboken, NJ :  |b Wiley,  |c 2011. 
300 |a 1 online resource :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
500 |a Title from PDF title page (viewed on Feb. 28, 2013). 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
520 |a The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion. 
650 0 |a Semiconductor doping. 
650 0 |a Ion implantation. 
650 0 |a Semiconductors  |x Heat treatment. 
650 4 |a Semiconductor doping. 
650 4 |a Ion implantation. 
650 4 |a Semiconductors  |x Heat treatment. 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Electronics  |x Semiconductors.  |2 bisacsh 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Electronics  |x Solid State.  |2 bisacsh 
650 7 |a Ion implantation.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00978590 
650 7 |a Semiconductor doping.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01112124 
650 7 |a Semiconductors  |x Heat treatment.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01112224 
650 7 |a Semiconductor doping.  |2 local 
650 7 |a Ion implantation.  |2 local 
650 7 |a Semiconductors / Heat treatment.  |2 local 
655 4 |a Electronic books. 
700 1 |a Baudrant, Annie. 
776 0 8 |i Print version:  |t Silicon technologies.  |d London : ISTE ; Hoboken, NJ : Wiley, 2011  |z 9781848212312  |w (DLC) 2011008131  |w (OCoLC)669751158 
856 4 0 |u https://doi.org/10.1002/9781118601044  |z Full Text via HEAL-Link 
994 |a 92  |b DG1