Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications /
Κύριος συγγραφέας: | Kääriäinen, Tommi |
---|---|
Άλλοι συγγραφείς: | Cameron, David, 1949-, Kääriäinen, Marja-Leena, Sherman, Arthur, 1931- |
Μορφή: | Ηλ. βιβλίο |
Γλώσσα: | English |
Έκδοση: |
Salem, Massachusetts : Hoboken, New Jersey :
Scrivener Publishing, LLC ; Wiley,
[2013]
|
Έκδοση: | 2nd edition. |
Θέματα: | |
Διαθέσιμο Online: | Full Text via HEAL-Link |
Παρόμοια τεκμήρια
-
Atomic layer deposition of nanostructured materials /
Έκδοση: (2011) -
CVD Polymers : fabrication of organic surfaces and devices /
Έκδοση: (2015) -
Discovering the future of molecular sciences /
Έκδοση: (2014) -
Roll-to-roll vacuum deposition of barrier coatings /
ανά: Bishop, Charles A.
Έκδοση: (2015) -
Copper-mediated cross-coupling reactions /
Έκδοση: (2013)